会议室内在一次安静了下来。

良久。

才有人小声议论。

“我读书少，啥是无掩模光刻机？”

“不清楚。”

“别看我，我哪知道。”

“这个苏副总设计师总是能给我们整出点新花样来。”

“实不相瞒，各位，我刚才没有感觉到多惊讶，因为已经习惯了。”

“那你的腿刚才抖什么？”

张老和林老也是相互对视了一眼。

眼中有着震撼之色闪现。

底下的人不清楚什么是无掩模光刻机。

他们可是知道的。

但这只是一种猜想，一种建议。

连最基本的理论支撑都没有。

苏晨竟然说要把它做出来！

台上的苏晨继续开口说道：

“各位，请安静一下。”

“众所周知，现在的光刻机已经发展到5纳米了。”

“按照摩尔定律，两年一代的速度更新下去。”

“用不了几年光刻机就会发展到1纳米。”

“1纳米之后呢？”

“之后怎么办？”

“所以干脆我们就绕开西方的技术专利，直接做出他们没有的！”

“到时候，我们可以直接向他们索要专利费！”

“额，苏副总设计师，我有个问题，你能给解答一下吗？”

“说。”

“这个你刚才说的无掩模光刻机，我们连听都没听过。”

“您能给大致的解释一下吗？”

“比如用什么做光刻？”

底下有人问道。

“问得好。”

“大家都知道现在的光刻机用的是紫外线光源做的光刻。”

“它分为紫外线，深紫外线，激动紫外线。”

“5纳米光刻机用的是极紫外光刻，也就是euv。”

“极紫外的光波长13.5纳米，它可以雕刻出5纳米的芯片。”

“这些紫外线统统被称为软x射线。”

“而无掩模光刻机我们采用的是用x射线来做光源！”

苏晨说道。

“x射线跟紫外线相比有什么优势吗？”

底下的人继续问道。

“优势很大。”

“x射线的波长从0.001纳米到10纳米，而更小的波长也意外这更锋利，也意味着可以减少光波的衍射，利于形成微小清晰的影像。”

“而且由于x射线准直性非常好，是1:1复制的，掩膜版使用的是硅梁支撑的低应力氮化硅薄膜，上面有一层图形化的进，作为掩蔽层。”

“曝光方式采用浸入的方式，可以极大的提升效率。”

苏晨说完。

底下的人又开始窃窃私语。

“苏副总设计师说的好棒啊，虽然我一个字都没听懂。”

“我也是听得很迷糊，但是我在国外留学的时候，我们系一个老教授倒是提过一句用x射线来做光刻机的光刻。”

“然后呢？”

“然后？没然后了啊。对了，再说一句，这个老教授的脑子好像有点不正常。”

“奥，我明白了，你的意思是只有疯子才这么想？”

“我也明白了，你是在拐着弯骂苏副总设计师呢。”

“我不是，我没有，别瞎说！”

“咳咳，大家别吵了。”

张老听见底下的争论有点变味，他顿时说道。

众人都安静了下来。

张老的眼神看向苏晨。

问道：“小苏啊，我多说一句，现在蓝星上所有的材料对于x射线都是折射率为1且吸收率很大的材料。”

“这个材料问题你怎么解决？”

苏晨微微一笑。

“这个问题我早就想过了。”

“很简单，采用多层膜的设计，可以让波段的反射率接近70%。”

张老楞了一下。

他就是随口一问。

没想到苏晨竟然这么快的就回答上来了。